腐食性ガス一発除去！制御機器類の大損害を容易に守る！

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制御盤内清浄化ユニット Corro-Shooter®

腐食性ガス一発除去！制御機器類の大損害を容易に守ります。独立して設置される制御盤や操作盤を腐食性ガスによる内部の腐食から保護し、盤内の制御/電気機器のトラブルに起因する様々な損失を未然に防ぎます。
又、計器室外に設置されている制御盤や、腐食性ガスが存在する場所に設置された制御盤など、様々な場所の制御盤に適応！

光触媒式腐食性ガス分解装置との腐食性ガス除去効率比較

光触媒式よりも高い腐食性ガス除去効率！

	他社製品(光触媒式)	コロシューター ダブルファンタイプ CFU-70W	コロシューター シングルファンタイプ CFU-70
除去方式	光触媒による酸化反応・分解	化学吸着剤による化学反応・分解	化学吸着剤による化学反応・分解
循環回数 (1m3の場合)	18回/時間	48回/時間	30回/時間
能力	H2S:100ppbを1時間で10ppb以下	H2S:2000ppbを約1分間で0ppb	H2S:2000ppbを約10分間で0ppb
メンテナンス	光触媒フィルタ洗浄	化学吸着剤交換	吸着剤モジュール交換
メンテ周期	H2S:100ppb 年４回以上洗浄が必要	H2S:100ppb 年1回吸着剤交換	H2S:100ppb 年2回吸着剤交換
概算価格 (JMS調べ)	×	◯	◎

1m³の密閉空間にH₂Sガスを循環させ、安定させた後、腐食性ガス除去装置を稼働し、空間中の硫化水素の濃度の経時変化を測りました。各々測定前には残留ガスが残らないようにし、空間内の濃度を安定させた同一の条件で測定を開始しました。

対応ガス

硫化水素ガス、メチルメルカプタン、亜硫酸ガス、窒素酸化物、VOCs、臭気ガス

特徴

• 高濃度、急激な濃度変化にも対応
• 除去効率が95%以上（制御盤の気密性による）
• 除去対象に応じて、二種類のMODELを用意
• 吸着剤モジュールは環境に配慮し、再生紙を使用(CFU-70のみ)

除去方法

化学吸着剤による気相状態での乾式除去 [酸化還元、中和反応、物理吸着]
《代表例》吸着剤(Purafil Select)での硫化水素除去反応

※硫化水素ガスを吸着剤（Purafil Select）で除去した場合の一例です。
※不可逆反応のため、破過したあとの再放出はありません。
※他成分の除去反応式は別途お問い合わせ下さい。

処理能力

《代表例》 硫化水素
※他成分の減衰曲線については、別途お問い合わせ下さい。
除去速度：1.2ppmを約800秒でほぼ0.0ppm
吸着剤モジュールの寿命：常時0.05ppmを除去し続けて約6ヶ月(CFU-70)

環境調査＜腐食性ガス診断・濃度測定機器＞

制御盤内清浄化ユニットと併せて使用する事で、より効果的に機器の保全が可能です。

環境試験片（設置30日後、分析）

診断方法	銅、銀及び金の金属片ｻﾝﾌﾟﾙを対象空間に30日間 曝露し、腐食度合を分析致します。
特徴	・金属試験片を使用した環境調査 　（銅・銀の金属片） ・標準測定法に基づいた評価基準 　（ISA-S71.04-1985に準拠）
※詳細はこちらをご覧下さい。

腐食性ガス濃度測定器（ポータブル）

測定方法	定電位電解法センサーにより対象の腐食性ガス濃度を 連続測定します。
特徴	・リアルタイムにて測定可能 　（サンプリング量：1l/min） ・硫化水素、二酸化硫黄、塩素等の 　腐食性ガス濃度測定が可能 ・測定レンジの分解能はppbレベルまで対応 ・アナログ出力（0-100mV）付属により、 　データロガー等に接続可能
※詳細はこちらをご覧下さい。

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